Společnost Samsung získala od svých partnerů certifikované nástroje, které jí umožní zahájit vývoj nového výrobního procesu známého pod názvem 5LPE (5nm low-power early). Nová technologie se stále opírá o interní litografii EUV (Extreme ultraviolet lithography) a certifikace „full flow“ nástrojů je pro výrobce čipsetů nezbytná, pokud chtějí vytvářet spolehlivý a účinný design čipů.
Nástroje pracují s jádry ARM Cortex-A53 a Cortex-A57 založenými na zmíněné technologii 5LPE, přestože druhé zmíněné jádro stále používá FinFET (Fin-field effect transistor) transistory. Nový design by měl v porovnání se současnými řešeními podle předpokladů nabídnout o 25 % vyšší efektivitu, ale hlavně o 20 % nižší spotřebu energie či o 10 % vyšší výkon.
V prvních vlajkových lodích možná už v příštím roce
Technologie 5LPE dle dostupných informací používá více EUV vrstev, než jak tomu je v případě 7LPP. Nový výrobní proces by měl probíhat ve fabrice v jihokorejském Hwasongu. Výrobní linka vyjde na 4,6 miliard dolarů a k jejímu dokončení dojde na konci letošního roku. Produkce odstartuje v roce 2020 a plného vytížení dosáhne ještě před příchodem nových vlajkových lodí.
